Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment выпустит новое оборудование для производства чипов без применения американских технологий. Об этом сообщает издание Tom"s Hardware.
По информации источника, речь идет о сканере для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). В его создании были задействованы материалы из Китая и Японии. Технология появится на рынке не раньше четвертого квартала 2021 года.
Сканер будет использовать лазер с длиной волны 193 нм. За счет некоторых улучшений минимальный техпроцесс выйдет на уровень 28 нм. В электронной отрасли Китая такой шаг считают огромным прорывом.
Как сообщало ранее Delovoe.tv, в Китае создали самый мощный квантовый компьютер в мире.